Identification du produit
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Article |
Spécification |
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Nom du produit |
Acide nitrique G4 |
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Catégorie de produit |
Produits chimiques humides électroniques à semi-conducteurs |
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Nom chimique |
Acide nitrique |
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Formule chimique |
HNO₃ |
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N° CAS |
7697-37-2 |
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Poids moléculaire |
63.01 |
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Numéro ONU |
2031 |
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Grade |
SEMI G4 Ultra-Qualité électronique de haute pureté |
Présentation du produit
L'acide nitrique G4 est un acide inorganique oxydant puissant de haute-pureté, spécialement développé pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices et les processus microélectroniques avancés. Fabriqué via des processus de distillation en plusieurs-étapes, de purification ultra-fine et de remplissage en salle blanche de classe 1000-, ce produit contrôle strictement les ions métalliques traces, les impuretés anioniques et les particules en suspension dans l'air, entièrement conforme aux normes internationales de semi-conducteurs SEMI G4.
Il constitue un produit chimique humide essentiel pour le nettoyage de l'avant des semi-conducteurs-et la gravure des métaux. Doté de fortes capacités d'oxydation et de nettoyage, il élimine efficacement les contaminants métalliques, les résidus organiques et les micro-défauts de surface des plaquettes de silicium. La teneur en impuretés ultra-faible élimine les risques de contamination du processus, stabilise la qualité de la surface des plaquettes et améliore le rendement de production pour la fabrication avancée de puces.
Apparence:Liquide volatil transparent, incolore ou légèrement jaune pâle
Spécifications techniques (norme SEMI G4)
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Article de test |
Spécification |
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Test HNO₃ |
69,0 ~ 71,0 % en poids |
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Apparence |
Liquide transparent incolore ou jaune pâle |
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Couleur (APHA) |
Inférieur ou égal à 10 |
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Densité à 20 degrés |
1,40 ~ 1,42 g/cm³ |
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Résidus d'évaporation |
Inférieur ou égal à 50 ppb |
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Métaux traces individuels (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Inférieur ou égal à 10 ppb chacun |
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Sulfate (SO₄²⁻) |
Inférieur ou égal à 50 ppb |
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Chlorure (Cl⁻) |
Inférieur ou égal à 30 ppb |
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Phosphate (PO₄³⁻) |
Inférieur ou égal à 30 ppb |
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Particules supérieures ou égales à 0,2 μm |
Inférieur ou égal à 100 pcs/mL |
Note:Toutes les données de test sont basées sur un COA (Certificate of Analysis) spécifique au lot-.
Applications (procédé humide des semi-conducteurs)
Nettoyage des métaux lourds des plaquettes :Élimine efficacement les contaminants de métaux lourds tels que le fer, le cuivre, le zinc et les impuretés inorganiques résiduelles sur les surfaces des plaquettes de silicium. Sa forte propriété oxydante garantit un nettoyage en profondeur sans introduire de contamination secondaire, répondant ainsi aux exigences de propreté ultra-élevées pour les processus avancés de fabrication de plaquettes.
Gravure en couche mince métallique :Appliqué pour la gravure fine et l'élimination de divers films minces métalliques dans la fabrication de semi-conducteurs, avec un taux de gravure stable et une excellente uniformité, adapté au traitement de motifs de précision des dispositifs microélectroniques.
Formulation de la solution de nettoyage humide composée :Utilisé pour préparer des solutions de nettoyage acides mixtes pour les processus de nettoyage standard RCA des semi-conducteurs, en coopération avec d'autres produits chimiques électroniques pour éliminer complètement les résidus organiques, les particules et les impuretés ioniques.
MEMS et traitement avancé des emballages :Convient au nettoyage de surface, à l'élimination des impuretés et à la micro-gravure des dispositifs MEMS, des capteurs à semi-conducteurs et des composants d'emballage de puces, en s'adaptant aux normes de fabrication microélectronique de haute-précision.
Norme d'emballage et de remplissage
Type d'emballage :Fût scellé en PEHD propre-résistant à la corrosion-, emballage dédié aux produits chimiques à l'acide nitrique
Spécification commune :Petit fût de 25 kg/30 kg, bac IBC résistant à la corrosion de 1 000 kg-
Environnement de remplissage :Salle blanche de classe 1000, système de remplissage fermé ultra-pur, élimine strictement la contamination par les particules secondaires et les impuretés
Norme d'étanchéité :Structure scellée anti-oxydation, anti-volatile et anti-fuite-, empêchant la détérioration du produit et la pollution externe
Stockage et durée de conservation
● Stocker dans un entrepôt chimique corrosif frais, sec, ventilé et dédié, conserver hermétiquement fermé, à l'abri de la lumière directe du soleil, des températures élevées et des sources de chaleur pour éviter la décomposition thermique.
● Isoler strictement des substances combustibles, des agents réducteurs, des produits chimiques alcalins et des matières organiques pour éviter les réactions d'oxydation violentes et les risques pour la sécurité.
● Évitez l'exposition à la lumière-à long terme pour éviter la décoloration et le déclin de la pureté provoqués par la photolyse.
● Durée de conservation :12 mois dans des conditions de stockage standard scellées et sombres
Précautions de manipulation et de sécurité
● L'acide nitrique est fortement corrosif et oxydant avec volatilité. Les opérateurs doivent porter un EPI professionnel complet : des gants-résistants aux acides, des lunettes de protection chimiques entièrement fermées, un tablier résistant à la corrosion-et des vêtements de travail de protection.
● Toutes les opérations de manipulation, de dilution et de dosage doivent être effectuées sous une sorbonne certifiée ; éviter l'inhalation de gaz toxiques volatils et le contact direct avec la peau, les yeux et les muqueuses.
● Pendant la dilution, ajoutez lentement de l'acide nitrique dans de l'eau déminéralisée ; ne versez jamais d'eau dans de l'acide nitrique concentré pour éviter les éclaboussures de liquide et les brûlures chimiques.
● En cas de contact accidentel, de déversement ou de fuite, mettre immédiatement en œuvre une élimination d'urgence conformément aux procédures opérationnelles standard et aux directives SDS.
● Reportez-vous au document FDS officiel pour connaître la classification complète des dangers, les réglementations de transport et les mesures de premiers secours détaillées.
Assurance qualité
Chaque lot d'acide nitrique G4 est produit, purifié et inspecté en stricte conformité avec les spécifications internationales de l'industrie des semi-conducteurs SEMI G4. Chaque expédition est accompagnée d'un COA officiel-spécifique au lot. L'ensemble du processus de production et de remplissage adopte un contrôle strict de la contamination en salle blanche -et une gestion résistante à l'oxydation-, garantissant une pureté ultra-, une faible impureté et une cohérence de lot stable, satisfaisant pleinement les exigences rigoureuses des processus avancés de fabrication humide de semi-conducteurs.
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