Identification du produit

Article	Contenu
Nom du produit	Acide sulfurique G4
Catégorie	Produits chimiques électroniques humides à semi-conducteurs
Nom chimique	Acide sulfurique
Formule chimique	\\(\\boldsymbol{H_2SO_4}\\)
N° CAS	7664-93-9
Poids moléculaire	98.08
Norme de qualité	Catégorie SEMI-G4

Description du produit

4 L'acide sulfurique est un acide inorganique puissant d'ultra-haute pureté-, fabriqué pour la fabrication avancée de plaquettes semi-conductrices. Produit par des processus de purification spéciaux et de filtration ultra-fine, il contient des impuretés métalliques à très-faibles traces-et un niveau de particules contrôlé, conforme à la spécification SEMI G4. Il est largement utilisé pour le nettoyage des plaquettes, le décapage des photorésists, l'élimination des résidus organiques et le traitement de surface dans la fabrication de circuits intégrés, minimisant ainsi le risque de contamination pour les processus microélectroniques -critiques en termes de rendement.

Apparence:Liquide huileux incolore et clair, inodore.

Spécifications techniques (norme SEMI G4)

Article de test	Spécification
Dosage (\\(H_2SO_4\\))	96,0 ~ 98,0 % en poids
Apparence	Liquide huileux incolore et clair
Couleur (APHA)	Inférieur ou égal à 10
Densité à 20 degrés	1,83-1,85 g/cm³
Résidus d'évaporation	Inférieur ou égal à 100 ppb
Particules supérieures ou égales à 0,2 μm	Inférieur ou égal à 100 pcs/mL
Traces métalliques individuelles (Al, Fe, Cu, Na, K, Ca, Mg, Zn, Ni, Cr, etc.)	Inférieur ou égal à 10 ppb chacun
Chlorure (\\(Cl^-\\))	Inférieur ou égal à 100 ppb
Nitrate (\\(NO_3^-\\))	Inférieur ou égal à 200 ppb
Phosphate (\\(PO_4^{3-}\\))	Inférieur ou égal à 200 ppb

Applications

1. Nettoyage des plaquettes semi-conductrices, élimine les contaminants organiques, les résidus de particules et les impuretés métalliques.
2. Processus de décapage de la résine photosensible pour la fabrication de circuits intégrés.
3.Préparation de solutions chimiques mixtes humides-pour le processus frontal-de semi-conducteurs.
4. Traitement de surface pour les emballages avancés, les appareils MEMS.

Conditionnement

● Fût PEHD de 330 kg

● Bac IBC de 1 500 kg

● Réservoir conteneur ISO 20MT (en vrac)

Rempli dans un environnement de salle blanche-pour éviter toute contamination secondaire.

Stockage et durée de conservation-

● Stocker dans un entrepôt frais, sec et-bien ventilé, hermétiquement fermé, à l'abri de l'humidité, de la chaleur et des substances incompatibles.

● Évitez la lumière directe du soleil.

● Durée de conservation- : 12 mois dans les conditions de stockage recommandées.

Remarques sur la manipulation et la sécurité

● Matériau fortement corrosif. Portez un EPI-résistant aux acides (lunettes, gants résistants aux acides-, tablier) pendant le fonctionnement.

● Ajoutez toujours l'acide lentement dans l'eau ; ne jamais verser d'eau dans de l'acide sulfurique concentré (forte réaction exothermique).

● Reportez-vous à la FDS correspondante pour obtenir des informations complètes sur les dangers, les premiers secours, la manipulation des déversements et les conseils de transport.

Assurance qualité

Chaque livraison doit être accompagnée d'un certificat d'analyse (COA) spécifique au lot. Toutes les procédures de production et de remplissage suivent le contrôle de la salle blanche-pour répondre aux exigences de contamination SEMI G4.

Certificat d'analyse

Nom du produit	Grade	Masse moléculaire relative	Formule moléculaire
Acide sulfurique	Produits chimiques électroniques G4	98.07	H₂DONC₄

Inspecter les éléments	Caractéristiques	Inspecter les éléments	Caractéristiques
Apparence	Liquide transparent incolore	Nickel (Ni), ppt	Inférieur ou égal à 100
Dosage (H2SO4), %	Supérieur ou égal à 96,0	Cuivrique (Cu), ppt	Inférieur ou égal à 100
Chromaticité, unités Hazen	Inférieur ou égal à 10	Zinc (Zn), ppt	Inférieur ou égal à 100
Résidu de combustion (sulfuré), ppm	Inférieur ou égal à 2	Gallium (Ga), ppt	Inférieur ou égal à 100
Chlorure (Cl), ppb	Inférieur ou égal à 50	Germanium (Ge), ppt	Inférieur ou égal à 100
Nitrate (NO3), ppb	Inférieur ou égal à 50	Arsenic (As), ppt	Inférieur ou égal à 100
Sel d'ammonium (NH4), ppb	Inférieur ou égal à 100	Strontium (Sr), ppt	Inférieur ou égal à 100
Substance réduite en permanganate de potassium (asSO2), ppm	Inférieur ou égal à 2	Zirconium (Zr), ppt	Inférieur ou égal à 100
Lithium (Li), ppt	Inférieur ou égal à 100	Niobium (Nb), ppt	Inférieur ou égal à 100
Béryllium (Be), ppt	Inférieur ou égal à 100	Molybdène (Mo), ppt	Inférieur ou égal à 100
Bore (B), ppt	Inférieur ou égal à 100	Argent (Ag), ppt	Inférieur ou égal à 100
Sodium (Na), ppt	Inférieur ou égal à 100	Cadmium (Cd), ppt	Inférieur ou égal à 100
Magnésium (Mg), ppt	Inférieur ou égal à 100	Étain (Sn), ppt	Inférieur ou égal à 100
Aluminium (Al), ppt	Inférieur ou égal à 100	Baryum (Ba), ppt	Inférieur ou égal à 100
Potassium (K), ppt	Inférieur ou égal à 100	Tantale (Ta), ppt	Inférieur ou égal à 100
Calcium (Ca), ppt	Inférieur ou égal à 100	Or (Au), ppt	Inférieur ou égal à 100
Titane (Ti), ppt	Inférieur ou égal à 100	Thallium (Tl), ppt	Inférieur ou égal à 100
Vanadium (V), ppt	Inférieur ou égal à 100	Plomb (Pb), ppt	Inférieur ou égal à 100
Chrome (Cr), ppt	Inférieur ou égal à 100	Bismuth (Bi), ppt	Inférieur ou égal à 100
Manganèse (Mn), ppt	Inférieur ou égal à 100	Particules (supérieures ou égales à 0,2 μm), nombre/mL	Inférieur ou égal à 300
Fer (Fe), ppt	Inférieur ou égal à 100	Particules (supérieures ou égales à 0,3 μm), nombre/mL	Inférieur ou égal à 100
Cobalt (Co), ppt	Inférieur ou égal à 100	Particules (supérieures ou égales à 0,5 μm), nombre/mL	Inférieur ou égal à 5

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